Mode Kunci Pintu Tungku Deposisi Vakum Untuk Grafit Dan Perangkat Semikonduktor

Tungku pengendapan vakum digunakan untuk persiapan bahan komposit karbon-karbon,dan tungku deposisi terutama digunakan untuk persiapan lapisan karbon pirolisis pada permukaan grafit, perangkat semikonduktor dan bahan yang tahan panas.

Lingkup penerapan:

Grafit, perangkat semikonduktor, bahan yang tahan panas.

1. Parameter dasar:

1) Suhu desain: 1250°C/1650°C/1800°C/2200°C

2) Suhu umum: 900~1200°C

3) Tingkat vakum: < 50Pa

4) Tingkat kenaikan tekanan: 6,67pA / h (atau 150Pa / 24h) dalam keadaan dingin di tungku kosong

5) Mode pemanasan: pemanasan resistansi grafit atau pemanasan induksi, kontrol suhu independen, seragam suhu yang baik

6) Medium atmosfer: vakum /CH4/C3H6/H2/N2/Ar

7) Mode kontrol gas: kontrol aliran massa meter, jalur gas multi-saluran, aliran lapangan seragam, tidak ada deposit mati Sudut, efek deposit yang baik;

Sistem pengolahan gas buang multi-tahap dan efisien, ramah lingkungan, mudah dibersihkan;

8) Jenis tungku: struktur persegi, bulat, vertikal atau horizontal (desain non-standar), ruang deposisi tertutup sepenuhnya, efek penyegelan yang baik, kemampuan anti polusi yang kuat;

9) Mode pendinginan tungku: pendinginan air cangkang tungku, sistem pendinginan cepat sirkulasi eksternal dapat dipilih, waktu pendinginan yang singkat, efisiensi produksi yang tinggi;

2Struktur tungku pengendapan vakum:

Bentuk struktur: horisontal - discharge sisi, vertikal - up/down discharge

Mode penguncian pintu tungku: manual/otomatis

Bahan cangkang tungku: baja tahan karat bagian dalam/seluruh baja tahan karat

Bahan isolasi: felt karbon/felt grafit/felt serat karbon

Pemanas, bahan muffle: grafit /CFC

Instrumen inframerah: kolorimetrik tunggal/kolorimetrik ganda

Sumber daya: KGPS/IGBT ((hanya cocok untuk pemanasan frekuensi menengah)

Produksi Spesifikasi: